CMP工藝磨漿專用過濾產品
在半導體及元件生產領域，使用液體狀的氧化物磨漿來打磨硅片，這些磨漿的粒度控制對于硅片絕緣層，鎢和銅的金屬層的表面質量有至關重要的影響，這要求過濾材料的粒度控制能力恰到好處。
我們提供的專用分級熔噴濾芯能夠提供一種相對精確的過濾精度范圍，在對以氧化鋁和二氧化硅為材料的磨漿進行過濾的時候，既能保持其原有的粒度范圍確保拋光質量，又能夠延長過濾的時間，達到節約的目的。
我們提供多種級別的分級過濾芯來適應在CPM工藝里磨漿的不同應用點，比如循環過濾、布流輸送回路和使用點的過濾。
